3C工程生产过程中使用了大量有机和无机物,包括许多有毒有害物质,对环境危害较为严重,如不加以控制,将会产生较大的环境污染。半导体行业中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量有机物成分。 在工艺过程中,这些有机溶剂大部分通过挥发成为废气排放。
澳纳森环保针对3C工厂的废气处理一般采用喷淋吸收、吸附、焚烧或多种相结合的处理方法。 酸、碱废气一般采用相应的碱液吸收和酸液吸收进行处理;低浓度、大风量、成分复杂的有机废气,一般采用吸附—催化燃烧法或沸石转轮浓缩+蓄热燃烧炉,净化效率达到90%以上,浓缩比达20﹕1,运行费用较低,设备处理风量大,占地面积小,不产生二次污染,可持续脱附并处理污染物。
【废气风量】:90000m3/h
【废气浓度】:100~450mg/m3
【废气组分】:醛类、氨、三甲胺、硫化氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫
【采用工艺】:沸石转轮+rto焚烧炉
每一次方案提供都是依据客户需要,按照客户实际情况,结合当地环评,设计出优性价比方案,切实解决客户污染问题
每一次我们不保证提供最低价格方案,但每一次我们都保证提供优秀的产品品质,服务。
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